Photomask Japan est un colloque et exposition international sur masques photo techniques de lithographie et au Japon. L'objectif du colloque est de rassembler les ingénieurs et les chercheurs du monde entier dans le domaine de la masques photo, NGL masques, et les technologies connexes pour discuter des progrès récents, les applications et les tendances futures. Le programme de la conférence seront sollicitées, de communications, d'affiches, et des discussions de groupe. Photomask Japan est une opportunité idéale pour introduire le matériel dans le cadre de masques photo technologie, des pièces, du matériel et des logiciels.