SPIE Photomask Technology + EUV Lithography Monterey
29. sept.. - 03. oct.. 2024 | Exposition de masques photo
Seulement 154 jours
Dates:
29.09.2024 - 03.10.2024*
dimanche - jeudi, 5 jours
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customerservice@spie.org
spie.org
Accès:
réservé aux visiteurs professionnels
Rotation:
annuel
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography est une conférence technique et exposition sur la technologie de masques photo et le premier événement du genre dans le monde. L'objectif de SPIE Photomask Technology + EUV Lithography est de rassembler les ingénieurs et les chercheurs du monde entier dans le domaine des masques photo et les technologies connexes pour discuter des progrès récents, les applications et les tendances futures. Le programme de la conférence seront sollicitées, de communications, d'affiches, et des discussions de groupe. SPIE Photomask Technology + EUV Lithography est une occasion idéale de mettre en place le matériel dans le cadre de technologie masques photo, des pièces, du matériel et des logiciels.
La SPIE Photomask Technology + EUV Lithography aura lieu en 5 jours de dimanche, 29. septembre à jeudi, 03. octobre 2024 à Monterey.
Heure locale:
22:59 heures (UTC -07:00)